就在日前，日經新聞報道，中國最大晶圓代工廠中芯國際（SMIC）斥資 1.2 億美元，自荷蘭廠商艾司摩爾（ASML）買來中國首臺極紫外光（EUV）光刻機的消息曝光之后，以生產 NAND Flash 為主的長江存儲，也在日前傳出，同樣向艾司摩爾采購價值 7,200 萬美元的 193 納米沉浸式光刻機，用于 20~14 納米的 3D NAND Flash 生產，也同樣運抵武漢。

最新的是，華虹集團旗下的上海華力集成電路，也迎接了他們的首臺 193 納米雙沉浸式的光刻機，以用于先進工藝的晶圓制造生產。

報導指出，從飛利浦獨立出來的艾司摩爾高階光刻機領域占據了全球 90% 的市占率。光刻機是生產大規模集成電路的核心設備，對芯片工藝有著決定性的影響，但它的制造和維護需要高度的光學和電子工業基礎，世界上只有少數廠家掌握。而全球有 40 個國家簽定了“瓦森納協議”，禁止向非締約國出售敏感性高科技技術，包括向中國出售高端光刻機技術。

但艾司摩爾發言人向日經新聞駁斥了這一傳聞，表示公司對全球各地包括中國客戶一視同仁，對中國晶圓廠商的出口不受協議限制。

華力的光刻機已經到貨了

事實上，中國在政府的政策支持下，發展半導體產業不遺余力已經不是新聞。不論是在晶圓代工制造、DRAM、NAND Flash 等領域，過去企圖透過購并、挖角以獲得先進技術。但是在工藝的過程中，關鍵的技術設備在過去難以取得，也是阻礙中國半導體發展的原因之一。如今，似乎這樣的限制正逐漸地被打開中。在相關的半導體生產中，中國廠商也開始逐漸導入先進的工藝設備，以方面往更先進的工藝。

據了解，在 5 月 21 日上午運抵上海浦東新區康橋工業園南區的艾司摩爾雙沉浸式光刻機，是由上海華宏集團旗下的華力集成電路所采購，預計將安裝于興建產線中的 12 吋晶圓廠──華虹六廠中使用。該部雙沉浸式光刻機的型號為 NXT 1980Di，可用于 10 納米級（ 14~20 納米）的晶圓生產，它也是中國裝備的最先進的沉浸式光刻設備。

而根據市場調查研究單位 IC Insights 的數據指出，上海華虹在 2017 年的營收排名全球第八，雖然仍落后龍頭臺積電很大的距離。但是，其金額卻僅次于中芯國際，而且年成長率高達 18%，為該年度全球成長最大的廠商。而上海華虹旗下的 12 吋晶圓廠──華虹六廠是該公司第 2 座 12 吋晶圓廠。預計產線完成建置，并正式投入生產后，最大產能可達每月 4 萬片。而開始設計的工藝技術為 28 納米，最終將以 14 納米工藝做為生產標準工藝技術。